電阻加熱蒸發源
優點:
結構簡單、使用方便、造價低廉,因此使用普遍;
可蒸發蒸發溫度小于1500℃的鋁、金、銀等金屬,蒸發一些硫化物、氟化物和某些氧化物.
要求:
1.蒸發源材料的自身熔點要高;
2.飽和蒸汽壓要低;
3.化學性能要穩定,且具有良好的耐熱性,熱源變化時,功率密度變化較小;
4.蒸發源對膜材料的"濕潤性"好.
電子束加熱蒸發源
優點:
1.與電阻加熱源相比可以減少污染;
2.能量集中,使膜料局部表面受到很高的溫度,而其它部分的溫度低.因此,可使高熔點(可以高達3000℃)的材料蒸發,且有較高的蒸發速率;
3.可以準確、方便地控制蒸發溫度;
4.有較大的溫度調節范圍,對高、低熔點的膜料都適用,適用性寬,特別適合蒸鍍熔點高達2000℃左右的氧化物.
缺點:
1.通常蒸鍍的膜層較薄;
2.蒸鍍的薄膜組分復雜.
激光蒸發源
優點:
能蒸發任何高熔點材料,可以蒸發各種材料,且獲得很高的蒸發速率;
與電阻加熱蒸發源相比可以減少鍍膜受污染;
非常適合于蒸發化合物或合金;
與電子束蒸發源相比,它避免了電子束蒸發膜面帶電的缺點.
缺點:
長時間工作,激光進入鐘罩窗口處的透鏡會受到影響;
激光蒸發器比較昂貴,且并非對所有材料都顯示其優越性;
由于蒸發材料溫度太高,蒸發粒子(原子、分子、簇團等)多易離子化,從而會對膜結構和特性產生一定影響.
高頻感應蒸發源
優點:
它是面蒸發,蒸發速率大,可以比電阻蒸發源大10倍左右;
蒸發源的溫度混勻穩定,不易產生飛濺現象;
蒸發源一次裝料,無需送料機構,溫度控制較容易,操作比較簡單.
缺點:
1.因為接觸易造成污染
2.只能蒸發導電的膜料
3.設備必須屏蔽,且需要復雜和昂貴的高頻發生器.